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Substrato MgF2

Pequena descrição:

1.Boa transmissão


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Descrição

MgF2 é usado como lente, prisma e janela para comprimentos de onda de 110nm a 7,5μm.É um material mais adequado como janela para ArF Excimer Laser, devido à sua boa transmissão em 193nm.Também é eficaz como polarizador óptico na região ultravioleta.

Propriedades

Densidade (g/cm3

3.18

Ponto de fusão (℃)

1255

Condutividade térmica

0,3 Wm-1K-1 a 300K

Expansão térmica

13,7 x 10-6 /℃ eixo c paralelo

8,9 x 10-6 /℃ eixo c perpendicular

Dureza Knoop

415 com penetrador de 100g (kg/mm2)

Capacidade Específica de Calor

1003 J/(kg.k)

Constante dielétrica

1,87 no eixo C paralelo de 1 MHz

1,45 a 1 MHz eixo c perpendicular

Módulo de Young (E)

138,5 GPa

Módulo de cisalhamento (G)

54,66 GPa

Módulo em massa (K)

101,32 GPa

Coeficiente Elástico

C11=164;C12=53;C44=33,7

C13=63;C66=96

Limite elástico aparente

49,6 MPa (7.200 psi)

Razão de Poisson

0,276

Definição de substrato MgF2

Substrato MgF2 refere-se a um substrato feito de material cristalino de fluoreto de magnésio (MgF2).MgF2 é um composto inorgânico composto por elementos magnésio (Mg) e flúor (F).

Os substratos de MgF2 possuem diversas propriedades notáveis ​​que os tornam populares em uma variedade de aplicações, especialmente nas áreas de óptica e deposição de filmes finos:

1. Alta transparência: O MgF2 possui excelente transparência nas regiões ultravioleta (UV), visível e infravermelha (IR) do espectro eletromagnético.Possui uma ampla faixa de transmissão do ultravioleta em cerca de 115 nm ao infravermelho em cerca de 7.500 nm.

2. Baixo índice de refração: O MgF2 possui um índice de refração relativamente baixo, o que o torna um material ideal para revestimentos AR e óptica, pois minimiza reflexos indesejados e melhora a transmissão de luz.

3. Baixa absorção: MgF2 apresenta baixa absorção nas regiões espectrais ultravioleta e visível.Esta propriedade o torna útil em aplicações que exigem alta clareza óptica, como lentes, prismas e janelas para feixes ultravioleta ou visíveis.

4. Estabilidade química: O MgF2 é quimicamente estável, resistente a uma ampla gama de produtos químicos e mantém suas propriedades ópticas e físicas sob uma ampla gama de condições ambientais.

5. Estabilidade térmica: O MgF2 tem um alto ponto de fusão e pode suportar altas temperaturas de trabalho sem degradação significativa.

Substratos de MgF2 são comumente usados ​​em revestimentos ópticos, processos de deposição de filmes finos e janelas ou lentes ópticas em vários dispositivos e sistemas.Eles também podem servir como camadas tampão ou modelos para o crescimento de outros filmes finos, como materiais semicondutores ou revestimentos metálicos.

Esses substratos são normalmente produzidos usando técnicas como deposição de vapor ou métodos físicos de transporte de vapor, onde o material MgF2 é depositado em um material de substrato adequado ou cultivado como um único cristal.Dependendo dos requisitos da aplicação, os substratos podem ter a forma de wafers, placas ou formatos personalizados.


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