Substrato MgF2
Descrição
MgF2 é usado como lente, prisma e janela para comprimentos de onda de 110nm a 7,5μm.É um material mais adequado como janela para ArF Excimer Laser, devido à sua boa transmissão em 193nm.Também é eficaz como polarizador óptico na região ultravioleta.
Propriedades
Densidade (g/cm3) | 3.18 |
Ponto de fusão (℃) | 1255 |
Condutividade térmica | 0,3 Wm-1K-1 a 300K |
Expansão térmica | 13,7 x 10-6 /℃ eixo c paralelo 8,9 x 10-6 /℃ eixo c perpendicular |
Dureza Knoop | 415 com penetrador de 100g (kg/mm2) |
Capacidade Específica de Calor | 1003 J/(kg.k) |
Constante dielétrica | 1,87 no eixo C paralelo de 1 MHz 1,45 a 1 MHz eixo c perpendicular |
Módulo de Young (E) | 138,5 GPa |
Módulo de cisalhamento (G) | 54,66 GPa |
Módulo em massa (K) | 101,32 GPa |
Coeficiente Elástico | C11=164;C12=53;C44=33,7 C13=63;C66=96 |
Limite elástico aparente | 49,6 MPa (7.200 psi) |
Razão de Poisson | 0,276 |
Definição de substrato MgF2
Substrato MgF2 refere-se a um substrato feito de material cristalino de fluoreto de magnésio (MgF2).MgF2 é um composto inorgânico composto por elementos magnésio (Mg) e flúor (F).
Os substratos de MgF2 possuem diversas propriedades notáveis que os tornam populares em uma variedade de aplicações, especialmente nas áreas de óptica e deposição de filmes finos:
1. Alta transparência: O MgF2 possui excelente transparência nas regiões ultravioleta (UV), visível e infravermelha (IR) do espectro eletromagnético.Possui uma ampla faixa de transmissão do ultravioleta em cerca de 115 nm ao infravermelho em cerca de 7.500 nm.
2. Baixo índice de refração: O MgF2 possui um índice de refração relativamente baixo, o que o torna um material ideal para revestimentos AR e óptica, pois minimiza reflexos indesejados e melhora a transmissão de luz.
3. Baixa absorção: MgF2 apresenta baixa absorção nas regiões espectrais ultravioleta e visível.Esta propriedade o torna útil em aplicações que exigem alta clareza óptica, como lentes, prismas e janelas para feixes ultravioleta ou visíveis.
4. Estabilidade química: O MgF2 é quimicamente estável, resistente a uma ampla gama de produtos químicos e mantém suas propriedades ópticas e físicas sob uma ampla gama de condições ambientais.
5. Estabilidade térmica: O MgF2 tem um alto ponto de fusão e pode suportar altas temperaturas de trabalho sem degradação significativa.
Substratos de MgF2 são comumente usados em revestimentos ópticos, processos de deposição de filmes finos e janelas ou lentes ópticas em vários dispositivos e sistemas.Eles também podem servir como camadas tampão ou modelos para o crescimento de outros filmes finos, como materiais semicondutores ou revestimentos metálicos.
Esses substratos são normalmente produzidos usando técnicas como deposição de vapor ou métodos físicos de transporte de vapor, onde o material MgF2 é depositado em um material de substrato adequado ou cultivado como um único cristal.Dependendo dos requisitos da aplicação, os substratos podem ter a forma de wafers, placas ou formatos personalizados.