Substrato DyScO3
Descrição
O único cristal de ácido disprósio e escândio tem uma boa rede correspondente com o supercondutor da perovskita (estrutura).
Propriedades
Método de crescimento: | Czochralski |
Estrutura de cristal: | Ortorômbico, perovskita |
Densidade (25°C): | 6,9g/cm³ |
Estrutura constante: | a = 0,544nm;b = 0,571nm;c = 0,789nm |
Cor: | amarelo |
Ponto de fusão: | 2107°C |
Expansão térmica: | 8,4x10-6K-1 |
Constante dielétrica: | ~21 (1 MHz) |
Diferença de banda: | 5,7 eV |
Orientação: | <110> |
Tamanho padrão: | 10 x 10 mm², 10 x 5 mm² |
Espessura Padrão: | 0,5 mm, 1 mm |
Superfície: | um ou ambos os lados epipolidos |
Definição de substrato DyScO3
O substrato DyScO3 (escandato de disprósio) refere-se a um tipo específico de material de substrato comumente usado na área de crescimento de filmes finos e epitaxia.É um substrato monocristalino com uma estrutura cristalina específica composta por íons disprósio, escândio e oxigênio.
Os substratos DyScO3 possuem diversas propriedades desejáveis que os tornam adequados para uma variedade de aplicações.Estes incluem altos pontos de fusão, boa estabilidade térmica e incompatibilidade de rede com muitos materiais óxidos, permitindo o crescimento de filmes finos epitaxiais de alta qualidade.
Esses substratos são particularmente adequados para o crescimento de filmes finos de óxidos complexos com propriedades desejadas, como materiais ferroelétricos, ferromagnéticos ou supercondutores de alta temperatura.A incompatibilidade de rede entre o substrato e o filme induz a deformação do filme, que controla e melhora certas propriedades.
Os substratos DyScO3 são comumente usados em laboratórios de P&D e ambientes industriais para cultivar filmes finos por técnicas como deposição de laser pulsado (PLD) ou epitaxia por feixe molecular (MBE).Os filmes resultantes podem ser posteriormente processados e usados em diversas aplicações, incluindo eletrônica, coleta de energia, sensores e dispositivos fotônicos.
Em resumo, o substrato DyScO3 é um substrato de cristal único composto por íons disprósio, escândio e oxigênio.Eles são usados para cultivar filmes finos de alta qualidade com propriedades desejáveis e encontram aplicações em diversos campos, como eletrônica, energia e óptica.